立法院で審議中の特許法再改正案は2003年1月3日、同院の第3読会を通過した。
この再改正案は近く総統令をもって公布・施行の予定であるが、今回の改正で特に重要なのは、次の事項である（2002年12月20日付けユニオンパテント工業所有権ニュース参照）。
- 審査請求期間の延長
現行法の規定では、初審の拒絶査定に対し不服がある場合の再審査請求期間は、拒絶査定書の送達の翌日から30日であるが、改正案ではこれが60日に延長される。 - 議申立制度の廃止
現行法では、公告中の出願に対し何人も公告の日から３カ月以内に異議申立をすることができるが、改正案では、異議申立制度が廃止され、特許権の付与後に無効審判を提起するものとする。 - 実用新案の実体審査の廃止
改正案では、実用新案について実体審査制度が廃止され、これにかわって技術報告制度が採用される。 - 侵害の場合における無効審判請求の優先審査
改正案では、侵害の争いが生じた場合、その特許権に対する無効審判請求を優先的に審査する。 - 実用新案及び意匠侵害に対する刑事罰の廃止
発明特許権の侵害に対する刑事罰の規定が前回の法改正で削除されたのに伴い、今回の改正では、実用新案及び意匠の侵害についても刑事罰の規定が削除される。 - 発明・創作の奨励のための特許料の減免
改正法では、発明・創作の奨励のため、個人、学校及び中小企業の発明・創作について、特許を受けた場合に特許料を減額又は免除する。
